超聲波清洗設備在LCD的清洗技術
【超聲波清洗機http://www.fscsc.com.cn】LCD清洗屬于精密清洗領域，對清洗的質(zhì)量、效率要求很高，以前,LCD工廠大多使用的是ODS清潔劑和超聲氣相清洗技術，在國際上加速淘汰ODS清潔劑的壓力下，
LCD廠正在積極選用替代ODS清潔劑(或稱非ODS清洗劑)，替代清洗劑必須保證清洗的LCD質(zhì)量不低于原用ODS清洗劑的清洗標準,甚至更高。本文簡單介紹LCD替代ODS
清洗技術和不用或少用清洗劑的物理清洗技術,并對其未來的發(fā)展進行了簡單評說。
一、非ODS清洗技術
到目前為止，LCD行業(yè)已有15家企業(yè)參與了《中國清洗行業(yè)ODS整體淘汰計劃》，并獲得國際多邊基會贈款。其中已有10家企業(yè)的替代設備投入運行。但仍有少數(shù)LCD廠繼續(xù)使用CFC-113及TCA。
部分已淘汰ODS清洗劑的企業(yè)也面臨進一步優(yōu)選工藝、設備及非ODS清洗劑，以便提高LCD清洗品質(zhì)及效益的問題。以下討論LCD行業(yè)非ODS清洗技術的現(xiàn)狀。
二、非ODS清洗劑及其工藝路線的選擇
適用于LCD行業(yè)的非ODS清洗劑有水基、半水基和溶劑型三種, 水基、半水基清洗劑適用于超聲水洗工藝路線，溶劑型清洗劑適用于氣相超聲清洗工藝路線。
水基、半水基及溶劑型三種替代清洗劑中，水基清洗劑的清洗速度遠遠不及溶劑和半水基型清洗劑。其原因有二：一是水基清洗劑去除LCD殘留液晶以表面活性劑與液晶的乳化作用為主，乳化對超聲波的依賴性較大；二是水的表面張力比溶劑大，對狹縫的濕潤性能較差。而表面張力較低的半水基和溶劑型清洗劑與液晶是一種溶解作用。
可用于直接替代CFC-113氣相清洗劑的溶劑型清洗劑包括HCFC、HFC、n-PB、HFE、低沸點碳氫化合物及其含氧衍生物。其中HCFC類如HCFC141b、HCFC225,因ODP值不等于0，為過渡性替代物;n-PB等鹵代烴在有水存在時對ITO具有較大的腐蝕性,而且n-PB的毒性至今尚無定論；HFC及HFE類的優(yōu)點是ODP等于0，但價格昂貴，且HFC4310具有極高的GWP值，低沸點的碳氫化合物及其含氧衍生物
最大的問題是易燃易爆，使用該類清洗劑必須采用有防爆功能的清洗設備。
基于上述水基清洗劑的清洗效力較低和溶劑型清洗劑的諸多問題。國內(nèi)外絕大部分LCD企業(yè)采用半水基清洗劑作為CFC-113的替代物，使用閃點大于等于61℃碳氫化合物既保證了清洗劑在使用、存儲和運輸過程中的安全性,又利用碳氫化合物與液晶的互溶性,較快的清洗殘留液晶,并輔以表面活性劑經(jīng)多道水漂洗,可以滿足LCD行業(yè)對清洗的品質(zhì)和效率越來越高的要求。
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